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利用金相顯微鏡對(duì)鍍層厚度進(jìn)行測(cè)量

拓普思實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng) 2019-01-28

微米級(jí)別薄膜材料進(jìn)行厚度測(cè)量,用普通方法測(cè)量是相對(duì)困難的。利用金相顯微鏡及其配合的軟件測(cè)量系統(tǒng),相對(duì)比較圓滿的完成了此次測(cè)量任務(wù)。 【測(cè)試原理】采用金相顯微鏡檢測(cè)橫斷面,直接以標(biāo)尺以輔助測(cè)量金屬覆蓋層、氧化膜層的局部厚度的方法。 【參考標(biāo)準(zhǔn)】GB/T6462-2005 【測(cè)試儀器】金相顯微鏡及金相測(cè)量軟件   【測(cè)試范圍】一般樣品厚度檢測(cè)大于1um,才能保證測(cè)量結(jié)果在誤差范圍之內(nèi);厚度越大,誤差越小。
利用金相顯微鏡對(duì)鍍層厚度進(jìn)行測(cè)量
【測(cè)試方法的優(yōu)缺點(diǎn)】這種測(cè)試方法的優(yōu)點(diǎn)在于適用的鍍層范圍內(nèi)測(cè)試結(jié)果特別準(zhǔn)確,誤差非常小,可以選擇其作為爭議的仲裁決定方法;這種方法的缺點(diǎn)在于制備鍍層測(cè)厚試樣的過程耗時(shí)費(fèi)力。